金属材料的元素分析是在金属冶炼，铸造和加工行业领域的研发，质量控制，过程控制和其他相关工程的传统工作。
光发射光谱仪广泛用于黑色金属和有色金属的元素分析中。该仪器可以同时分析数十元元件，具有快速，准确，稳定的性能，满足工业开发，过程控制，进货检验，产品分类等要求。
光发射光谱仪为金属分析提供了一种方便，环保和低成本的解决方案，使研发，生产过程和产品质量更具可控，帮助用户升级技术水平和质量;同时加速相关程序并为用户创造经济和环境效益。光发射光谱仪一直是评估工厂技术和产品质量水平的典型设备。
性能优势
基于多CCD检测器和总溅射技术，光发射光谱仪检测波长范围内的所有光谱线;因此，安装和添加矩阵，通道和分析程序是非常容易的。尺寸紧凑，易于维护和定位在实验室。一种仪器中的黑色金属和有色金属分析。
多CCD探测器和总秒板技术，更易于安装和添加矩阵，通道和分析程序
由于尺寸紧凑，需要实验室的较小空间
工作24/7，为您的业务提供高稳定性和可靠性
在35秒内分析和展示结果的快速方法
操作和维护简单方便运营商
所有典型的分析程序都被校准，其中更准确和测试更多类型的金属等级
易于使用标准化样品校准仪器
没有化​​学试剂，分析过程是安全和环保的。
环境温度：15-30°C
大气湿度：≤70％
电源：电压220V±5V 50Hz;单相，保护地面
没有振动，灰尘，强电磁干扰，实验室中强大的气流或腐蚀性气体
辅助设备
氩气 - 纯度高于99.999％
AC参数电压稳定器-1KVA
研磨机 - 适用于钢，镍合金等样品
小车床 - 适用于铝，铜，锌，镁等的样品
空调 - 根据实验室区域选择合适的电源
技术规格
光谱仪设计
Paschen-runge多色镜，350mm焦距
有效波长范围：140-800 nm
分辨率：10 PM / PIXEL
温度控制在34±0.5℃，真空型或空气型
特殊的铸造材料减少了腔室的变形
火花源
数字等离子体发生器
高能量前火花（HEP）
频率：100-1000Hz.
电流：1-80A
光栅
全息凹光栅：3600 L / mm
一阶频谱的分散：1.2nm / mm
火花架
样品支架的4mm分析间隙
喷射流技术
在待机模式下没有氩消耗
探测器
高性能线性阵列CCD
维度和重量
分析时间
取决于材料的类型，通常不到30秒
电力
最大限度。1.5kva.

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